二手 MRC 603 #9272191 待售

MRC 603是一種著名的濺射設備，適用於沈積薄膜，用於電子、光電和顯示行業的各種應用。它通常被認為是薄膜沈積的一個組成部分，這是一個沈積過程，涉及將材料的薄層引入目標基板，以提高目標的性能。603是一種先進的濺射系統，其特點是使用多磁控管進行膜沈積。該裝置旨在促進均質和可重復的全球復合薄膜。它由一個鐘形罐室組成，容納一個或兩個磁懸浮旋轉濺射源組件。超高吸塵器保證清潔和高產.MRC 603的先進技術使其在雙目標模式下達到15nm/min的可重復沈積速率，在單目標模式下達到10nm/min。603可以容納直徑可達350毫米的基材。它還具有最先進的控制計算機，能夠快速濺射時間選擇和可重復速率控制。控制計算機還允許用戶實時調整任何工藝參數，以達到任何沈積要求的最佳機器性能。該工具還包括壓力安全互鎖等先進的安全功能，以確保基板和資產在工藝條件下的安全。它還具有檢測高功率狀態和防止電弧的能力。其他功能包括強大的氣體控制系統，以實現惰性和反應性或原位處理。該模型還提供了特殊的腔室清潔度-通常低於1E-9T，通過移動腔室偶極子和冷捕設備的組合實現。這在光學塗層的情況下尤為重要。該系統采用先進的旋轉HPR磁懸浮源組件，具有較高的電離效率和沈積均勻性。總而言之，MRC 603是一種先進的濺射裝置，適用於電子、光電和顯示行業中多種薄膜材料的沈積。其先進的特點，如可重復率、可調工藝參數、腔室清潔度和安全系統，確保沈積均勻、可重復，過程可靠、安全。