二手 MRC 643 #293660538 待售

MRC 643是一種計算機控制的脈沖直流磁控濺射設備，設計用於薄膜和蝕刻應用。設計為在真空條件下提供優質、均勻的薄膜沈積和可控蝕刻。該系統能夠與各種塗層材料同時濺射多達四個基板或晶片。643具有獨特的分裝設計，大大提高了濺射裝置的多功能性。單個基板可以加載到每個拆分模塊中，然後可以將模塊帶到相同的條件，從而允許目標和基板之間快速切換。這減少了生產時間，使濺射機效率最大化。MRC 663使用低溫磁控管濺射陰極。這提供了一個非電離環境，使沈積過程能夠進行，而不會產生電荷積累或反應物積累的風險。對低溫磁控管產生的工藝壓力進行了優化，使其能夠對各種塗層材料進行濺射。該工具還具有三級可變電源,可提供1-50 kW的各種濺射功率。這樣可以精確控制濺射速率和沈積膜的厚度。該資產還具有多通道參考發生器，可精確控制腔室壓力和濺射氣體流動。MRC 643還具有一個載荷鎖定模型，該模型允許底物在最小程度地暴露於空氣的情況下裝入腔室。這樣可以保持腔室的清潔度，並最大限度地減少沈積膜被汙染的機會。該設備還具有自動疏散周期，以將操作壓力降低到指定的水平。最後，643還提供了PC控制的圖形用戶界面，以簡化對濺射過程的控制和監控。此接口提供了簡單的參數設置、對過程條件的監視以及對系統歷史數據的完全訪問。此接口還提供有關介質流量、腔室壓力和電源傳遞的反饋數據,從而可以完全控制濺射過程。