二手 MRC 643 #293741512 待售

MRC 643是一種磁控管反應濺射設備，用於選擇性薄膜沈積。該系統包括三室磁控管等離子體電源、可遠程編程電源、外部控制器板和高精度旋轉級。磁控管室，又稱基板室，容納濺射目標磁鐵，以及基板臺。基板臺可容納直徑200毫米、高度50毫米的兩種基板。等離子體源由直徑300毫米的圓形磁控管目標組成，具有32極設計，能夠在內外表面之間產生均勻的磁場。外部控制器板設計用於將電源和相關程序與濺射目標接口。該板裝有一系列溫度傳感器，以及壓力傳感器和電阻溫度探測器。濺射目標由石墨源和矽源組成，兩者都裝在磁控管腔內。石墨源是一種金屬氧化物，由位於腔室底部的電加熱燈絲蒸發氧化。通過在燈絲周圍產生氦氣流動，金屬氧化物被帶離磁控管目標，從而防止氧化物積聚。矽源是一種氧化鋁塗層的碳化矽材料，加熱到受控溫度。電源能夠為設備中的兩個濺射目標提供1000瓦的功率輸出。它還支持許多可編程的應用,包括調整機械旋轉級、電壓和電流,以及控制面板功能。該機還提供了一種離子量規，可以在濺射過程中測量腔室內的工作壓力，從而能夠精確控制工藝參數。643是一種高度先進的濺射工具，旨在達到最高層次的選擇性、均勻性和過程重復性。經過嚴格測試的參數以及先進的濺射技術使資產非常適合任務關鍵濺射應用。強烈推薦用於研發、半導體和顯示器制造、節能材料等先進濺射應用。