二手 MRC 643 #9008358 待售

MRC 643是為薄膜沈積而設計的最先進的濺射設備。該系統采用強大的IAD（離子輔助沈積）法沈積厚度均勻、表面粗糙度低的薄膜。它的電源能夠提供高達1000瓦的功率，並且可以產生各種類型的離子。643每面積可輸送180毫安（mA）的電流，允許製造出較厚層的高性能薄膜。基板支架配有創新的加熱器，確保濺射時均勻、最佳均勻沈積。MRC 643的多功能沈積組分允許沈積各種類型的薄膜，包括金屬、矽酸鹽和氧化物。該機組配有挖掘機、目標架和射頻源，使用戶可以在多種沈積參數中進行選擇。本機可在1 mTorr（1 x 10^-3 Torr）至760 Torr之間運行，最大功率1000瓦。它還設計用於可靠和安全的操作，具有全面的安全協議，包括非接觸式門關閉和緊急停止位置。該工具還具有出色的離子光學元件，可實現高性能沈積所需的精確和均勻的離子轟擊。643還具有較高的自動化程度，使用戶能夠完全自動化基板溫度、源功率、氣流、壓力等濺射參數。其他功能還包括數字控制臺，確保操作方便和快速設置；用於監測薄膜沈積的薄膜顯微鏡；以及用於產生超高真空的多孔離子泵。MRC 643設計用於多種用途,包括各種尺寸、形狀和材料的樣品。也適用於廣泛的薄膜沈積應用，如平板顯示器、薄膜太陽能電池、薄膜電致發光器件等多種微納米材料應用。總之，643濺射資產是生產均勻性和可重復性都很好的薄膜的理想工具。