二手 MRC 643 #9124209 待售

製造商
MRC
模型
643
ID: 9124209
PVD Sputtering system CTI 4 cryo pump on load lock chamber Preheat station CTI Cryo 8 pump RF Etch station (3) DC Cathodes (3) Gas channels.
MRC 643是一種高性能直流磁控管濺射設備,設計用於各種應用的材料的高通量沈積。它具有可配置的三區腔室配置,最多可支撐三個沈積陰極,允許高密度多層薄膜堆叠。該系統配備了高達5000瓦的電源,並且能夠提供高達2500瓦的濺射功率,這意味著它可以覆蓋廣泛的應用。643的三區室構型是多層堆棧沈積的理想選擇,因為底物和沈積陰極可以在空間上分離,以避免對底物或沈積層的汙染。該室還包括其他功能,例如集成壓力控制單元,它提供快速可靠的壓力控制,最小設置壓力為1 mTorr,最大設置壓力為4 Torr。MRC 643還通過六指載荷鎖定設計實現了向基板的良好質量傳輸,從而確保了向基板表面的均勻質量傳輸。薄膜層的沈積速率可以很容易的控制,允許從1-10Å/秒~的一系列沈積速率。它還能夠執行反應性濺射過程以及原位清洗和蝕刻基板,從而在過程實施過程中加強控制。643還配備了完善的安全協議,為機器和人員提供可靠的保護。整個濺射工具由計算機可編程的專有控制軟件控制。它能夠創建半自動流程,從而節省時間並減少人為錯誤。總體而言,MRC 643提供了出色的濺射資產,能夠對多種材料進行高通量處理和薄膜沈積,使其成為各種表面工程應用的理想模型。
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