二手 MRC 643 #9206604 待售

MRC 643是為長期、高通量、精確的薄膜沈積而設計的高性能濺射設備。利用高功率射頻發電機實現的多目標泵浦磁控管濺射頭，對均勻塗層和層厚進行了優越的控制。該系統利用其專有的先進薄膜生長引擎,以確保最高的目標利用率和沈積薄膜同質性,並易於使用用戶友好的圖形用戶界面（GUI）。該裝置的濺射室裝有上部眼螺栓網絡，便於進入內部，並裝有負載鎖，以提高吞吐率。腔室的下部由兩個獨立的腔室組成，一個腔室加熱至最大330 C，另一個腔室設計用於幹蝕刻，可裝載最多兩個獨立的基片。此外，腔室可以容納直徑達200毫米的基板。該機包括一個堅固的冷卻電路和附加的可選溫度控制,使基板溫度降至100 °C。脈寬調制（PWM） DC-DC轉換器具有單獨控制的目標,由GUI控制。所有沈積參數均由GUI的自動記錄保存工具收集和存儲。除了由多目標濺射器實現的超高沈積速率外，該資產還提供了各種濺射角度的出色膜均勻性。具有較高的可重復性和可重復性，具有較低的缺陷包涵和無與倫比的薄膜性能。它還提供了多種可能的化學計量方法，並且能夠針對不同的沈積要求進行簡單和快速的設置。總體而言，643濺射模型已成為薄膜沈積的一種廣泛應用的工具，尤其是在精度和速度是關鍵的情況下。它提供了對均勻塗層和層厚度的卓越控制,能夠為廣泛的應用創建穩定、高性能的薄膜。