二手 MRC 643 #9229736 待售

MRC 643是一種用於材料和結構中心的濺射設備，由劍橋納米技術公司開發。該系統的設計目的是提供專門的材料表征和電路制造服務，具有集成離子源等特殊功能，可用於精密沈積薄膜。該產品是一種功能強大、用途廣泛的表面分析設備，具有用於沈積金屬塗層和電路的濺射能力。643濺射裝置設有一系列濺射槍，可在很大範圍內控制金屬薄膜的沈積。濺射槍在基材上產生高品質、均勻的塗層，導致較高的接觸阻力和均勻的摻雜摻雜。該槍標有：RF、DC/RF和二極管，允許根據應用選擇最佳濺射技術。該機還設有控制濺射過程的高頻波形發生器，以及允許沈積復雜幾何形狀的柔性基板支架。此外，該工具還配備了一個特殊的腔室，用於在濺射過程中容納和保護基板。該室采用均勻的平底設計，用於均勻的濺射膜。資產還具有用於精確摻雜的集成離子源，從而消除了源偏差，並防止雜質在沈積過程中汙染材料。離子源還具有低能沈積裝置，可直接摻雜高度敏感的設計和組件。最後,該模型安裝在堅固可靠的不銹鋼外殼中,設計用於在工業或實驗室環境中提供高效、安全和穩定的操作。外殼配有氣鎖安全室，可冷卻至-60°C，確保性能優越。總體而言，MRC 643是一種通用的濺射設備，提供先進的金屬薄膜和電路的精密沈積。它具有高頻波形發生器、集成離子源、堅固可靠的不銹鋼外殼和低能沈積裝置，以獲得最佳效果。該系統適用於範圍廣泛的應用，從復雜的幾何形狀到高度敏感的設計。