二手 MRC 643 #9265606 待售

MRC 643是一個最先進的濺射系統，非常適合用於研究和工業應用。它由兩個主要組成部分：一個裝有磁控管濺射源和基板支架的陰極腔和一個裝有離子源和加速器單元的加速柱。643的陰極腔室設有兩個渦輪分子泵送系統，使腔室和濺射源保持在真空狀態。它還包含兩個四口袋電動機械旋轉多行基板支架,能夠容納尺寸不超過4英寸的單個或多個基板。可調濺射源允許沈積速率的變化，並提供可靠的角度濺射能力。MRC 643的加速柱由利用射頻離子源的離子源和加速器、加速柵格和集電極柵格組成。離子源產生一束來自源材料的帶正電荷的離子，如氙氣（Argon）或氙氣（Xenon），並將這束束引向底物。加速柵格以高達20 keV的速度傳遞粒子束，而集電極柵格則保持剩余的離子重新沈積到基板上。總體而言,643是一個高度通用的系統,旨在處理各種應用程序,並提供卓越的精度和準確性。通過結合高沈積速率、優異的均勻性和可重復性，以及優越的角度濺射能力，該系統非常適合研究機構和生產作業。MRC 643由於運營和維護成本低,是當今市場上最具成本效益的濺射系統之一。