二手 MRC 822 #9388780 待售

MRC 822是一款高性能、雙源反應離子濺射設備。它裝有兩個獨立的濺射源：一個電子束槍和一個磁控管槍，都裝在屏蔽室中，並裝有閉環冷卻系統。電子束槍由專用電源校準和控制，而磁控管槍則由外部電源供電。電子束槍是一種所謂的「光束對靶」設計，意思是它包含一個電子源，聚焦光學器件，以及一個以水冷為後盾的粗短鎢靶。這種濺射源具有廣泛的可調參數範圍，包括束電流、槍偏置電壓和快門開啟時間，允許精確控制濺射材料成分、速率和薄膜厚度。磁控管槍設計用於總屈服濺射，其中從陰極中釋放出的氙氣，以使目標材料保持熔融狀態，允許產生納米粒子。這個源也可以調節，氣體流量、氣體成分、壓力等參數都可以調節。濺射室由三個主要部分組成：真空室本身、帶樣品支架的基座和磁性屏蔽。該腔室的泵送速率為20 mTorr，並配有離子計控制器（IGC）以精確監測腔室壓力。基板安裝座可容納尺寸可達200毫米的樣品，並能夠旋轉和加熱至375 °C。腔室還具有幾個安全特性，包括漏氣探測器和緊急通風閥，可以快速降低腔室壓力。總體而言，822是一款先進的濺射裝置，提供全方位的可調濺射參數、大型基座、高效的冷卻機等，可以產生各種厚度和成分的優質薄膜。適用於廣泛的塗層和薄膜研究項目，如外延生長、金屬和金屬間沈積、氧化表面、擴散屏障等。