二手 MRC 8667 #9007986 待售

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製造商
MRC
模型
8667
ID: 9007986
RF Sputtering system WPLC Chamber Missing part: Pump Generator is down.
MRC 8667是為高質量、高通量薄膜沈積而設計的濺射設備。系統的主要部件包括高功率射頻(RF)濺射源,用於將物料從源傳遞到基板上,旋轉目標,屏蔽快門和負載鎖定機構。射頻濺射源提供三種不同的電源設置,以適應不同的濺射需求。目標是一種可快速沈積和均勻塗覆薄膜的旋轉機構。屏蔽快門是可調的,可以根據需要關閉或打開,以防止材料在濺射過程中進入單元。載荷鎖定機構用於最小暴露於空氣中的底物的裝卸。8667具有先進的控制機器,用戶可以精確控制濺射沈積速率。此工具可精確控制濺射速率、目標溫度和壓力。此外,資產內的濺射源可以很容易地去除,換成不同的材料集,以便快速和容易的目標蝕刻。該模型還具有多步編程功能,允許用戶使用單個設置來存放多層。MRC 8667適用於苛刻的工業應用,如氧化物、氮化物、偶聯層沈積,以及復合材料沈積。它也適用於精密濺射的材料,例如氙、碳化矽、鎢等。該設備與廣泛的基板兼容,包括裸露的和有圖案的基板,這使得它非常適合各種應用,從半導體和LED制造到航空航天和國防工業。8667提供了優越的表面光潔度和低缺陷密度和改進的可預測性和過程可重復性。該系統還設有一個綜合安全單元,可用於快速探測和應對任何潛在的安全危險。這臺機器耐用、可靠、高效,為用戶提供高性能、經濟高效的濺射工具。
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