二手 MRC 8667 #9239313 待售

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製造商
MRC
模型
8667
ID: 9239313
Sputtering system Manual loadlock with pumping system Cryo pump installed Does not include compressor No DC power supply No mechanical pump MFC For gas control.
MRC 8667是Applied Materials生產的多功能DC/RF濺射沈積設備。這種沈積系統是為半導體工業而設計的,因為它使用可旋轉的熱屏蔽將多個過程組合在一個單元中。該機提供精密的工藝集成、均勻的塗層、最佳的吞吐量和較高的正常運行時間。該工具具有一個大型(2.3米x 1.0米x 1.5米)腔室和先進的集成硬件,包括石英淋浴頭、可旋轉隔熱罩、冷凍泵、底壓顯示器和八通道工藝控制器。隔熱罩可使多達四個晶片在同一模塊中同時被濺射塗層,使總濺射時間減少多達70%。此外,基礎壓力監視器和先進的集成硬件使資產能夠保持優化的設置,如溫度、壓力和射頻功率,從而實現卓越的薄膜特性和出色的均勻性。8667型號具有高度的靈活性,能夠提供單一或多個射頻功率,在不同的目標和功率下精確且可重復地沈積多種薄膜,以及具有不同的占空比和氣體流量的多種配方。在淋浴和基板上使用單獨的腔室組件,可確保以最快的周轉時間進行最小的維護。此外,該設備的設計目的是節約能源,這意味著它產生幾乎為零的排放,並且在1.2平方米的占地面積內需要不到1.3kW的電力。MRC 8667還包括用於用戶定義過程精確管理的尖端過程控制軟件。此軟件使用戶能夠監視、控制和修改濺射過程。用戶還可以訪問基於軟件的濺射沈積包,以最大限度地提高復雜應用的性能,如絕緣子上矽濺射沈積和金屬氧化物半導體制造。總之,8667濺射系統是一種先進的濺射沈積裝置,提供精密的工藝集成、均勻的塗層、最優的吞吐量、高的正常運行時間。此外,其集成的硬件和過程控制軟件使其具有高度的靈活性,能夠精確和可重復地沈積各種不同氣流和載荷周期的薄膜。這臺機器是一個理想的解決方案,為半導體行業尋求最大的性能復雜的應用。
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