二手 MRC 902 #50686 待售

製造商
MRC
模型
902
ID: 50686
Sputtering system (2) Targets: ANGSTROM SCIENCES planar magnetron, 5x15" (2) MFC's: UNIT Controller: TECHWARE 68000 DC power supplies: ADVANCED ENERGY MDX-5 High uniformity shield (used for TaN sputtering): 1% across the pallet MKS 270 and baratron GP-303 IG controller Flat screen monitor Membrane keyboard.
MRC 902是一種最先進的濺射設備,設計用於存放用於科學研究和工業應用的材料。它配備了高級射頻(RF)源和直流(Direct Current)基板偏置控制,從而實現了更高的精度和準確性。利用精確的溫度控制,系統可以實現精確的沈積速率,允許各種不同性質材料的精確沈積。902配置了兩個陰極:一個主陰極能夠濺射多種目標材料而不會重新調整陰極位置,以及廣泛選擇的單材料輔助單元。輔助單元可以配置為適應目標的各種形狀和大小,從而能夠在一系列基板上進行沈積。此外,該單元還包括一個精密的EUV(極紫外線)組件,用於在薄至10埃的層中制造更高純度的材料。MRC 902配備了超穩定射頻輸電機和強大的控制電源流量的能力,可實現精確、一致的材料沈積速率和沈積厚度。此外,RF電源工具使資產能夠以不同的組合濺射多種材料,用於高度定制的應用程序。通過使用先進的閉環溫度控制,可以使濺射過程保持嚴格的工藝公差,這有助於確保均勻的層厚度。該模型包括一個集成的排氣和凈化設備,可以精確調節室內的氧氣濃度,從而確保最高質量的沈積物。902具有許多其他功能,使其成為幾乎任何應用程序的理想濺射系統。它提供了一個用戶友好的觸摸屏界面,易於調整和監控。該儀器還提供監測和報告過程參數的高精度測量能力。最後,還包括用於捕捉沈積過程的高分辨率圖像的工具,用於目視監測。總體而言,MRC 902是一個功能強大的濺射裝置,為研究和工業用戶提供無與倫比的性能和可重復性。它設計用於處理各種材料和基材,能夠實現高度精確和精確的沈積。
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