二手 MRC 902 #9229738 待售

MRC 902是為薄膜沈積而設計的通用磁控管濺射設備。該系統能夠將介電、金屬和透明的導電氧化物沈積到各種基板上，包括：矽片、平面和3D物體。該單元采用永磁直流磁控管濺射源，在目標表面上提供均勻的濺射分布。磁控管源能夠以可調功率和氣體壓力速率濺射合金和化合物。它的可調功率和氣體壓力速率使用戶能夠以不同的沈積速率和目標材料實現對整個過程的控制。此外,機器中的可轉動源允許對大型或復雜基板進行均勻覆蓋。902還提供了精確、通用的沈積速率和厚度控制。厚度可以在0-100 nm之間進行調整,從而可以沈積具有精確所需厚度的薄膜。此外，它還配備了自動化壓力控制器，讓用戶能夠快速改變氣體壓力和功率水平等過程參數。MRC 902設計為通過外部真空室容易粘附在多種基板上。這種較短的循環時間將總沈積時間從幾分鐘減少到幾秒，從而提高了沈積速率，從而提高了每小時的沈積速率。此外,該工具高度自動化,可實現精確控制和流程可重復性。在安全性方面，該資產采用內置流程氣體監測器，有助於避免汙染。它還具有目標監視器,可幫助檢測整個過程中目標材料的任何變化。此外,它還具有一個射頻接口單元,可提供額外的安全性,以防止不必要的射頻幹擾。綜上所述，902是一種非常可靠、高效、準確的濺射模型，適用於各種薄膜沈積應用。憑借其可調的氣體壓力和功率水平，精確的薄膜厚度控制，自動化的壓力控制，有助於提高薄膜質量，提高每小時沈積速率。總而言之,MRC 902是任何實驗室制作薄膜產品的絕佳選擇。