二手 MRC 902 #9254520 待售

看起來這件物品已經賣了。檢查下面的類似產品或與我們聯系,我們經驗豐富的團隊將為您找到它。

製造商
MRC
模型
902
ID: 9254520
Sputtering system (2) Targets clamp-on DC magnetron Pallet, 12" for wafer load / Unload RF Plasma etch Water cooled CTI-CRYOGENICS 10 Cryo pump.
MRC 902是物理氣相沈積(PVD)過程中常用的一種濺射系統。它是一種高純度、單端或雙端、冷壁、二極管濺射系統,帶有兩個6英寸或8英寸的磁控管。它利用高能電子束作為離子源,使其達到比其他濺射系統更高的沈積速率和更好的保形性。902利用其專利的「級聯」偏置方法,能夠實現更高的沈積速率,達到每分鐘40埃,以實現廣域覆蓋和保形。它還結合了對磁控管的壓力、功率和幾何配置的仔細優化,以提高均勻性性能。電源還設計為使用先進的保護電路,以防止高壓電弧和其他異常性能。MRC 902配備了集成的平面管電源,允許兩個6英寸或8英寸磁控管耦合,同時保留了單端和雙端操作的雙重能力。此高級功能使902能夠在運行小型和大型基板時實現更高的吞吐量。此外,如果在多室系統中安裝多個MRC 902,則可以遠程控制平面管電源。MRC 902還配備了自動化機制,可以輕松編程以提供不間斷的性能,讓用戶大幅減少重置和處理時間。其易於使用的圖形軟件界面可用於流程參數調整和數據檢索,進一步增強了這一點。902設計用於濺射薄膜、半導體器件處理、光學塗層、數據存儲和顯示顯示器等廣泛應用。其高可靠性和魯棒性使其適合在航空航天、汽車、醫療器械制造等多個行業使用。它的特點也使得它成為需要精確過程控制和靈活性的研發應用的絕佳選擇。
還沒有評論