二手 MRC 902 #9286004 待售

MRC 902濺射設備是為半導體材料加工研究應用而設計的先進沈積工具。用放電產生的高能離子轟擊目標材料，用於在基板上制造薄膜。濺射的工作原理是首先通過感應電流在真空室中產生一個由氣體離子組成的等離子體。然後，將目標材料從目標源濺射到基板上，作為薄沈積物。902濺射系統提供了對沈積過程的精確控制，允許創建厚度均勻的精確薄膜。該單元具有多種特性，包括22個目標源配置、多個濺射源和電流密度可變的濺射源。該機還具有5軸機械臂，用於源操縱和精確目標定位。它能夠在大面積基板上實現高度均勻的全覆蓋層.MRC 902還有一個精密的沈積過程實時監測過程控制工具，具有可調參數以優化膜性能。這些參數包括壓力、真空水平、溫度、過程氣流、源組成和功率水平，以及目標到基板的距離。該資產還配備了直觀的用戶界面以實現高效操作。902濺射模型是一種可靠、通用的制造和研究應用解決方案。它生產具有精確控制的均勻薄膜，為制造商提供適用於先進設備應用的優越基板。由於其眾多的特性和用戶友好的界面，它是市場上最流行的材料沈積和研究系統之一。