二手 MRC 902M #9255814 待售
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ID: 9255814
Sputtering system
(2) Standard rectangular targets
Sputter etch
Pallet size: 12" x 12”.
MRC 902M是一種用於薄膜沈積工藝的濺射設備。濺射沈積（sputter deposition）是一種物理氣相沈積（PVD）過程，其中材料的薄膜被施加到基板上。這種沈積過程依賴於在真空室中開發的動能，以去除目標材料的薄層並將其沈積在基板上。902M系統具有混合直流/脈沖直流電源，可以精確控制濺射沈積過程。它包括雙高效、分段、線性7.5-kW磁控管,具有物理屏蔽/水冷功能,可用於多腔操作。先進的基板-旋轉單元還允許在大型基板上沈積均勻性。MRC 902M濺射包括廣泛的工藝氣體功能，允許用戶濺射各種材料。具體來說，它允許與氧氣、氮氣和氙氣進行反應性濺射，使其成為沈積氧化物、氮化物和矽化物的理想選擇。該機還具有廣泛的壓力/工藝參數，可以精確調整，允許全方位的工藝控制。902M提供一個單室薄膜材料的高質量、低成本濺射沈積。其先進的基板旋轉工具提供高度均勻和可重復的沈積，而其先進的工藝氣體能力允許各種材料的反應性濺射。其強大、高效的電源和精確的工藝參數提供了特定於應用的薄膜沈積，使其成為各種薄膜沈積應用的強大資產。
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