二手 MRC 903 series #85308 待售
網址複製成功！
ID: 85308
晶圓大小: 12"
Vertical / downward sputtering system, 12"
Includes:
Chamber, load-lock and chassis
Cryo pump, helium lines and compressor
Rough pump
Hydraulic pump
Siemens/Omron PLC system with Siemens HMI
Computer system, wiring, pneumatics
Motor drive system
Safety interlock and emergency stop system conforming to current EU SEMI standards
10K DC power supply
Full set of documentation containing electrical drawings, user and maintenance manuals
(2) cathodes without material (dep material unknown)
Control system capable of storing 256 multi-step user selectable recipes, automatic pump-down and cryo regeneration routines.
MRC 903系列濺射設備是一種生產級工具，用於將各種材料的薄膜沈積到基板上。它旨在實現大型生產運行中精確和可重復的薄膜沈積。該系統利用直流、射頻和脈沖直流電源實現濺射沈積的多種技術選擇。MRC 903是一種先進的物理氣相沈積裝置，能夠在大基板上沈積100 nm-500nm薄膜，生產運行大。機器包括一個旋轉目標組件，允許各種材料被濺射，以及用於直流和射頻磁控管濺射的選項。直流電源可變到500伏,射頻電源可變到500瓦。該工具具有多種過程控制功能,可對沈積過程進行精確控制。這些功能包括計算機控制的可變壓力室、多區域溫度控制器以及高級流程監控資產。用戶友好界面還提供高級編程選項，允許隨意開發、存儲和召回復雜配方。MRC 903濺射模型有一個有源視圖室，可以現場觀察沈積過程，從而可以實時優化條件，達到理想的薄膜效果。此外,該模型還可以與自動化的源到樣傳輸設備集成在一起,從而能夠在大型基板上快速、高效和可重復地沈積薄膜。總體而言，903系列濺射系統是一種可靠、先進的薄膜沈積生產解決方案。該設備具有高性能的濺射功能、先進的功能以及適用於大型和小型生產運行的靈活性,為薄膜沈積提供了高效的解決方案。
還沒有評論