二手 MRC 903 #293793591 待售

MRC 903是一種脈沖功率、固態濺射設備，設計用於真空沈積工藝的研發。903的最先進的架構以脈沖基板平面磁控管構型為特色，具有直流電和射頻濺射能力。其功率範圍高達800 W，脈沖寬度範圍為1-400 µs。該平臺是為最大的靈活性和控制濺射過程而設計的。MRC 903濺射系統具有單或雙平面磁控管配置，平面5 「X 5」處理面積，源尺寸為12 「X 12」。它有一個鋁制真空室，帶有視口，腔室可以下泵至4 x 10-7 Torr的基礎真空，最大工作壓力為10 mtorr。溫度控制和監測由Brooten NSTL-20數字室熱控制器管理。帶有圖形顯示的控制面板可控制濺射參數,如功率、脈沖寬度、速率、頻率和基板溫度。用戶友好的宏可通過單鍵按鈕選擇最佳操作參數。該軟件包括多種預先確定的應用程序配置文件,用於多達10種不同的濺射配置和多種不同的材料。通過對反應性濺射操作的氣流進行精確計量，質量流控制器提高了精度。通過對操作過程中最佳壓力軌電位的詳細控制，實現了較高的性能。903是廣泛化合物沈積的理想選擇，從絕緣體到半導體。在制造半導體、顯示屏、太陽能電池和汽車塗料等薄膜產品方面有廣泛的應用。MRC 903具有高精度、高精度、高可重復性，具有大面積沈積的高吞吐量，適用於生產過程。903濺射裝置安全可靠，可輕松融入現有真空裝置。它具有持久耐用性和低維護要求。機器運行安靜，提供了一個小的外形規格，使其適合狹小的空間。MRC 903是任何潔凈室研究實驗室或工業設施的完美工具。