二手 MRC 903 #9199289 待售

MRC 903是一種先進的桌面濺射設備，提供高質量的薄膜沈積，具有可靠的工藝重復性。它是一個高速、功能齊全的濺射系統，為光學塗層、MEMS、光電子、MEMS和ASIC設備等應用生產薄膜層。903是一個三軸濺射單元，帶有石墨源和可旋轉的基板支架。它有一個屏蔽5kV晶體管濺射槍和一個氣箱，最多有八條氣線和兩個閥門真空閥。它具有用於濺射的高能電子槍和帶有平面目標的電子槍組件。MRC 903還提供了多種輔助源，如離子源、氙等離子源、射頻和微波發生器。903有一個獨特的三級單元化沈積室，同時允許多個目標的濺射和蒸發與單獨的電源和腔室條件。具有良好的沈積室均勻性，具有廣泛的沈積參數，包括腔室壓力、溫度以及氣體和電離水平。MRC 903的用戶界面非常可自定義,允許精確控制濺射處理。903采用氣動驅動的電動直線級結構,可精確移動和定位目標和基板。它有一個雙面板，提供穩定，足智多謀的磁場，以保持目標和基板到位。MRC 903的表面磁鐵板也可用於控制可旋轉基板支架的角位置。903的設計也為基板支架和靶標提供了方便的保護，使其成為薄膜沈積的安全可靠的選擇。它包含高質量薄膜沈積所需的所有元素，包括蒸發源、壓板、底物和石墨源。綜上所述，MRC 903是一款可靠的桌面濺射機，可為多種半導體技術提供高質量、可重復的薄膜沈積。這是一個足智多謀的設備，具有許多特點，以確保高效和有效的薄膜沈積。其出色的設計特點和易用性使其成為需要精確控制濺射操作的研究人員的理想解決方案。