二手 MRC 903 #9388420 待售

MRC 903是一種用於研發以及工業工作的射頻磁控管濺射設備。濺射系統具有一個開放的腔室，可以方便地訪問目標材料，以及一個開源，允許精確控制目標材料的選擇。它配備了30 kV直流源，能夠提供10 mA的最大光束電流，以及用於額外濺射蝕刻控制的離子槍選項。該裝置還具有獨特的低壓真空，允許精確的氣體輸送和穩定的目標表面。903具有精確的濺射速率和均勻性,這意味著可以操縱目標材料的表面以獲得精確的結果。該機器能夠產生多種材料選擇，包括金屬、絕緣體和半導體。MRC 903因其易於使用和用戶友好的設計而廣受歡迎。該工具包括一個用戶友好的界面，具有可調的濺射和蝕刻速率，使用戶能夠快速和輕松地定制其沈積速率。此外，該資產還包括詳細和全面的報告，使用戶能夠跟蹤其濺射工作的進展情況。903具有大磁控管，保證了廣泛的濺射選項和沈積。它的大直徑25厘米的真空室也允許大濺射目標，這意味著模型可以容納更大的基板，以及多個樣品。再者，設備兼容多種工藝，意味著用戶可以進行離子蝕刻和濺射。MRC 903是研發實驗室和工業過程的理想工具。它的大腔室尺寸、精確的濺射速率和全面的報告使它成為創建一致、高質量樣品的絕佳選擇。其用戶友好且可定制的界面使其易於使用和調整參數,從而減少了獲取結果所需的時間和精力。其可靠的引擎和最頂端的源代碼確保了一致的結果和最大的輸出。