二手 MRC 903A #9038716 待售

MRC 903A是一種濺射設備，設計用於薄膜沈積在薄膜應用的基板上。它具有多功能基座單元的高通量設計，包含一個可旋轉的濺射頭，以及一個大功率的射頻和直流電源。RF電源用於驅動RF磁控管濺射槍，直流電源用於驅動密集的等離子體聚焦目標。濺射頭在兩個X-Y-Z方向上都可調節，在大面積上提供極好的均勻性。該系統采用雙源真空室與兩種材料同時濺射。雙源腔室有兩個獨立的腔室，每個腔室都包含自己可旋轉的濺射頭。為基板的裝卸提供了一個樣鎖室.903A還有一個可選的朗繆爾-布洛傑特槽，可用於沈積有序分子陣列。MRC 903A具有廣泛的過程監控功能。氣流計算機用於調節過程壓力，監測濺射材料與Ar+的比例。該機組還配備了質譜儀，用於監測O2和N2等工藝氣體，以及用於測量射頻功率輸出的晶體振蕩器。還包括Peltier元素,用於樣品的精確溫度控制。903A是一種功能強大、用途廣泛的濺射機，可用於金屬、氮化物和氧化物薄膜的沈積。它是一種高通量的工具，具有出色的均勻性，高度可重復和可靠的過程控制，以及專門的安全和過程控制監控。有了可選的朗繆爾-布洛傑特槽，它非常適合廣泛的介電、半導體和鐵磁材料。