二手 MRC 903M #9160487 待售

MRC 903M
製造商
MRC
模型
903M
ID: 9160487
Sputtering system Programmable PLC system (3) Cathode positions Load lock CTI 8 Cryopump Dual stage mechanical pump Turbo pump option installed for load lock ADVANCED ENERGY Digital RF power supply ADVANCED ENERGY Digital RF matching network ADVANCED ENERGY Digital DC power supply MKS Digital MFC.
MRC 903M是一種濺射設備,旨在為表面提供薄膜材料的均勻塗層。該裝置由Veeco Instruments制造,廣泛應用於薄膜光學器件的制造、導電材料在玻璃基板上的沈積以及發光膜的制備。該系統采用改進的磁控管槍結構,以便在大面積上產生均勻的濺射塗層,並具有非常低的輪廓不規則性。MRC 903 M的主要特點是能夠控制膜的濺射速率、磁場、電離密度和均勻性。這是通過其集成的四磁控管槍、更大面積的平面目標以及先進的工藝控制軟件來實現的。該槍被設計為易於調節,以適應不同的濺射配置,並包括用於優化生產率的內置AI學習算法。903M包括一系列綜合安全功能,如生產過程中出現任何違規或安全問題的自動關機。其控制機還允許用戶調整離子通量、目標溫度、基板溫度和射頻頻率,以優化性能。該工具的綜合軟件包還可以實現精確的均勻濺射(UPS),從而提高生產效率並增強均勻性。此外,903 M與其他同類系統相比相對緊湊,並包括一個便於維護和清潔的可移動目標室。該資產也適用於任何濺射環境,從一個小的實驗室到一個大的生產gooch。此外,該模型設計為節能,可節省高達40%的總生產能源成本。總體而言,MRC 903M是一種用途廣泛、可靠的濺射設備,非常適合薄膜材料和光學元件的形成。該系統的綜合特性和安全系統確保了最佳性能並縮短了維護時間,使其成為許多薄膜生產和研究應用的首選。
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