二手 MRC 903M #9166698 待售

MRC 903M濺射裝置是一種用於薄膜沈積的裝置，用於提高金屬和半導體等基板的性能。它可以以精確控制和均勻的方式將化合物或元素合金沈積到基板表面。MRC 903 M是專為執行磁控管濺射而設計的，這是一種利用磁場從被濺射到基板上的物體產生電弧的過程。該工藝可用於提高基板的電導率或耐腐蝕性。903M也具有射頻濺射的能力，這是濺射的另一種形式。903 M是一種真空系統，配有大功率濺射源和渦輪分子泵，用於維持超高真空。它還具有多沖程控制器和可編程邏輯控制器，用於控制濺射過程的溫度、壓力和持續時間。該單元可以精確控制濺射氣體壓力，允許非常薄的薄膜沈積。此外，它還能夠在同一基板上同時沈積兩種不同類型的金屬。MRC 903M非常可靠，能夠在各種基板上一致、準確地進行多次濺射。它可以長時間連續運行,而不會顯著降低性能。而且，機器非常靈活，可以很容易地針對不同類型的濺射過程進行調整。與其他濺射系統相比，它也很容易維護，而且成本效益很高。由於用途廣泛，MRC 903 M濺射工具非常適合用於需要薄膜沈積的多種行業。這些行業的例子包括太陽能、光電、微電子和醫療用品。它能夠在單個基板上執行多個濺射過程，這使得它成為一種高效的設備，能夠進行精確和經濟高效的制造。