二手 MRC 943 #9227138 待售
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ID: 9227138
Sputtering system
Compressor
Mech pump
System hardware:
MRC Load lock assembly
CTI CT-8 Cryo pump:
Load lock
Process chamber
(3) SIERRA Scientific planar 5"x15" cathodes
(3) Target shielding sets
ADVANCED ENERGY MDX-10 DC Power supply: 10 kW
MRC Hivac valve
With MRS throttle valve assembly
(3) MKS MFC
MKS 390 Baratron assembly
MRC Hydraulic system
Etch:
ENI OEM-12A RF Generator
ENI Matchwork 10 RF Matching unit
Rack hardware:
GOULD / MODICON PLC Controller
GP-303 IG Controller
MKS 252 Throttle valve controller
MKS 247 MFC Controller: 4 Channels
(5) GP-275 Convectrons
TCR DC Voltage power supply (MRC Rail bias).
MRC 943是一種濺射設備，用於在基板表面沈積薄膜。它的工作原理是用高能粒子轟擊目標材料，以去除目標的一小部分，並將其沈積在基板上。該系統包括一個裝有濺射源和目標陰極的真空室、一個用於維持低壓環境的真空泵裝置、一組用於控制電流的電源和一個工藝溫度控制器。目標通常由多種材料制成，包括金屬、合金、陶瓷和礦物。通常將其加熱至高溫，以提高濺射產量。用於濺射目標材料的高能粒子可以來自磁控管源或射頻源。該過程可以在廣泛的壓力範圍內進行，以控制沈積速率。濺射室內部的真空環境通過限制可能發生的競爭性反應的數量，有助於最大限度地提高濺射材料的收率。壓力通常保持在壓力測量單位1毫升以下。過程溫度也可以通過溫度控制器調節，這使得濺射過程以更高的速率發生。為了控制施加在基板和目標上的電流，機器利用了一組電源。電源可以編程為提供恒定或脈沖電流工作模式。在恒定模式下，電源可以向目標和基板材料傳遞連續的不間斷電流，允許在基板上均勻沈積。在脈沖模式下，電源可以快速開啟和關閉電流，允許高度控制的沈積。943是一種高效、精確的薄膜沈積在基板上的工具。其高濺射屈服和精確的溫壓控制，使其成為包括半導體和固態器件制造、微電子、光學、平板顯示器生產在內的廣泛應用的理想濺射資產。MRC 943以其高效的操作和穩健的設計，是可靠、可重復的薄膜沈積的理想模型。
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