二手 MRC 944 #9266003 待售

MRC 944是一種射頻濺射設備，設計用於薄膜的物理氣相沈積（PVD）。它使用射頻源產生等離子體，為膜沈積提供濺射功率。該系統設計用於高沈積速率、低電壓、長壽命和方便用戶的操作。944由射頻發電機、濺射目標、電源、供氣單元和真空室組成。發電機是一種高功率射頻源,可為目標材料提供高達2 kW的功率。目標材料通常是金屬或半導體材料。電源由射頻發電機供電,最多可提供5kV到目標。用於產生濺射目標材料所需的高壓。供氣機為濺射清洗提供惰性氣體進料，為沈積過程提供背景壓力。真空室用於在沈積過程中將空氣從腔室中排出，保持低壓環境。MRC 944的射頻濺射過程旨在在具有精確厚度控制的基板上產生均勻覆蓋。這是通過調整沈積時間和提供給目標的電源來實現的。沈積速率可以通過改變提供給目標的功率來調節。通過控制等離子體密度和基板偏置電壓來實現覆蓋的均勻性。采用帶磁屏蔽和溫度控制的濺射目標，可以提高944的輸出。這有助於降低噪音和防止沈積結果不均勻。通過適當的設置，可以產生高質量、可靠的薄膜效果，具有良好的附著力和可重復性。MRC 944工具用於許多領域的薄膜物理沈積，如微電子學、光學塗層、生物醫學材料等。它壽命長,維護要求低,界面友好,適合許多實驗室和制造應用。944在為許多應用程序提供可靠和一致的結果方面有良好的記錄。