二手 MRC Eclipse Mark II #293822989 待售

MRC Eclipse Mark II是一種反應性濺射設備，用於在不同基板上制造各種材料的薄膜。該系統采用磁控管濺射原理，即用高能離子轟擊惰性氣體。離子從陰極（目標材料）濺射到基板上.Eclipse Mark II具有直流電（DC）磁控管濺射源，具有8英寸的固體目標，安裝在0-90°可旋轉的基板支架上。該裝置能夠同時濺射多達四個目標，允許多層薄膜沈積。提供了各種磁控管、氣體插件和快門組件,從而為用戶所需的過程提供了無與倫比的靈活性和配置。直徑3英寸的腔室由低熱膨脹材料構成，具有抽油機，基礎真空度為0.05毫巴。這種真空水平為更有效地完成薄膜沈積和表面工程提供了必要的環境。該工具配備了包括4軸伺服控制器和可編程邏輯控制器在內的綜合自動化控制。這提供了整個沈積過程的精確和高效的自動化。該資產還與離線配方編輯器和專用沈積控制軟件兼容。這使用戶能夠輕松配置和自定義他們的流程以適應每個應用程序的要求。MRC Eclipse Mark II設計用於研發和工業應用，如濺射塗層、防護塗層和先進的薄膜結構。此外，該模型還可用於光學或機械元件、消費電子、電介質和各種其他工業應用。Eclipse Mark II提供高通量，同時提供準確和可重現的沈積過程。歸根結底,設備提供了簡單、準確和高效的平衡組合。