二手 MRC Eclipse #9144009 待售

MRC Eclipse
製造商
MRC
模型
Eclipse
ID: 9144009
晶圓大小: 8"
Sputtering systems, 8".
MRC Eclipse是一種濺射設備,廣泛應用於各個行業,包括半導體、塗層光學、納米技術。采用等離子體活化沈積(PAD)技術控制濺射顆粒的動能,保證了卓越的塗層性能和更高的工藝穩定性。PAD Technology允許更高的吞吐量、改進的均勻性和優越的粘附沈積膜。Eclipse結合了改進的設計和專有技術,實現了卓越的濺射過程。它具有一對運動階段,每個階段都配有一對基於PC的過程控制器。控制器配備了功能強大且具有前瞻性的軟件,允許對濺射過程進行精確控制。高級算法補償了濺射過程中可能出現的各種非線性現象。此外,該軟件允許使用自動批處理功能進行簡單的基於配方的處理。MRC Eclipse中的真空室是雙壁絕緣,允許增加熱穩定性。它還具有優化的設計,可降低運營成本並幫助將氣體消耗降至最低。腔室還有一個專用的前室,允許快速腔室吞吐量。Eclipse還包括幾項獨特的功能,可增強工具性能。高速率壓力傳感器和反饋芯片不斷監控和補償壓力性能,確保最佳工藝穩定性和可靠性。此外,該系統還包括一個可靠的沈積監測器,可連續跟蹤設備性能,並為過程優化和過程跟蹤提供有價值的信息。所有這些功能使MRC Eclipse成為一臺可靠且經濟實惠的濺射機,能夠提供卓越的質量和性能。它廣泛應用於掩蔽、制圖、蝕刻等多個行業,其優越的技術和可靠的性能使其成為高精度濺射工藝的理想選擇。
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