二手 MRC Eclipse #9144779 待售

MRC Eclipse是為廣泛應用而設計的先進濺射設備。它結合了獨特的特點，可以在各種基材取向上進行精確的濺射控制處理，適用於薄膜的高精度塗層沈積。Eclipse能夠提供高達1000 W的非常高的功率，允許金屬的超高速率沈積。它還包括反應性濺射的能力，使先進材料如金屬氧化物和氮化物能夠沈積。該系統由電能源、氣體控制單元、真空室和電源組成。能源是一種電子束源，能夠提供高功率和出色的控制，而氣體控制機則允許傳遞惰性和反應性氣體。真空室采用硬化不銹鋼墻設計，利用先進的熱管理系統進行快速高效的加工。與傳統的濺射系統相比，MRC Eclipse具有幾個優點。它提供了高速率的沈積，具有出色的膜粘附性能，以及對目標侵蝕和過程均勻性的精確控制。它還允許反應性濺射，允許沈積先進材料。此外，它在極端溫度下具有較高的沈積速率和良好的薄膜性能。Eclipse設計用於多種行業，能夠提供快速高效的生產，並具有極高的質量效果。MRC Eclipse能夠提供高度均勻的塗層,並具有精確度和靈活性,因此是滿足各種不同需求的理想解決方案。