二手 MRC Eclipse #9296418 待售

MRC Eclipse是為薄膜沈積而設計的濺射設備。采用物理濺射沈積法在基板上沈積薄膜。該系統設計有一個真空室，它是一個密封室，用來控制濺射膜的質量。腔室有幾個端口和閥門，使操作員能夠控制濺射氣體的流動。當一個通常是金屬板的目標被放置在真空室中並暴露於外部能量來源，如射頻或直流電時，就會開始濺射過程。當目標被高能粒子轟擊時，目標材料的原子被噴射出來並傳播到基板上，在那裏它們形成一層薄膜。Eclipse是一種高度可配置的單元，允許操作員精確控制薄膜的質量。它可以設置用於一系列濺射過程，如平面、磁控管和混合濺射，以及反應性濺射。機器還可以配置多個目標和子目標。這允許使用不同材料層增強沈積結果以用於高級薄膜堆棧。該工具采用控制器設計,使操作員能夠密切監視過程。該控制器可調節腔室壓力、氣流、沈積速率、電弧侵蝕和功率水平。它還允許用戶為不同的沈積過程編程一系列配方。該控制器還使用戶能夠輕松存儲和召回配方,從而簡化沈積。總體而言，MRC Eclipse是一種可靠且可高度定制的濺射資產。它使操作員能夠精確地將薄膜沈積在具有可靠沈積性能的基板上。它還提供了一系列易於選擇和保存的工藝配方。這樣可以確保過程效率和高性能。