二手 MRC Mark II #9230625 待售

MRC Mark II是一種濺射設備，用於真空沈積過程，將金屬、半導體和其他材料的薄膜沈積到基板上。廣泛應用於航空航天、汽車、生物醫學、塑料和納米技術等多個行業。Mark II由兩個主要部分組成：真空室和電源.腔室密封，允許背景壓力為1 x 10-6托爾，可以用渦輪分子泵進一步降低。它還包含一個負載鎖，用於在真空下從腔室裝卸基板。電源是高壓直流電源,正向和反向電流均具有可變設置。它通過多個電極連接到真空室，可以進行調節，以便量身定制等離子體。該系統允許不同類型的濺射過程，包括無功、直流磁控管和射頻二極管。在反應性濺射中，將Argon、O2等反應性氣體引入腔室，對目標材料產生反應。直流磁控管濺射是一個過程，在這個過程中，永磁體被用來產生一個旋轉的，由加速離子組成的等離子體，作用在目標材料上。最後，射頻二極管濺射是一種將射頻功率施加到感應耦合等離子體上以產生電離大氣並轟擊離子將薄膜濺射到基板上的過程。除了基本的濺射設置外，該單元還提供了額外的功能，如用於將基板精確放置到目標上的高分辨率視覺機、用於基板加熱的高精度溫度控制以及多種基板配置能力。為了增加安全性，該室設有防爆照明、煙霧控制裝置和氣密密封。總體而言，MRC Mark II是一種多功能的濺射工具，對沈積過程提供了極大的靈活性和精確的控制。它特別適用於需要低缺陷率的高性能塗層解決方案的行業。