二手 MRC Mark IV #293652073 待售

MRC Mark IV是一種先進的薄膜沈積濺射設備。它是使用廣泛的目標和氣體塗覆高均勻性大面積的強大工具。靈活的設計允許各種過程要求。系統的核心是一個多通道射頻磁控管濺射裝置。這就提高了沈積率，提高了生產效率。該機器能夠瞄準尺寸可達350毫米的基板，視野可達140 x 140毫米。標準配置包括最多四個要同時濺射的目標,這些目標配置在3個區域的平臺上。每個區域都是獨立控制的，可以配置不同的氣體，讓操作員對過程進行微調。該工具還能夠處理廣泛的材料，如氧化鋁、二氧化矽、鈦、氙和鉻。根據應用程序的不同,可以選擇壓力、功率和溫度的各種配置,以最好地滿足客戶的要求。此外,該資產允許在一個周期內使用不同功率的多個目標進行多濺射和多層覆蓋。這為客戶的薄膜沈積過程提供了更大的控制、靈活性和準確性。Mark IV專為超高精度應用而設計。它具有一個精密的AutoGas™模型，其中使用GMS和氙離子平衡等離子體密度和保證均勻沈積厚度在基質上。正因為如此，MRC Mark IV是廣泛的半導體、MEMS和Optics應用，包括塗層玻璃、石英、金屬和陶瓷表面的首選設備。該系統還配備了一套診斷工具,包括一個有效的QA/QC單元,稱為Process Integrity。這樣客戶就可以實時監控整個過程,包括目標排放和基板響應。其他工具包括配方控制、全機監控、過程控制和多個關機選項。這樣可以確保過程是一致的,並且每次運行都能最大限度地提高產量。總之，MarkIV是一種先進的濺射工具，能夠使薄膜平滑、準確地沈積，具有很高的均勻性。憑借其精密的磁控管技術，它可以精密塗覆寬廣的區域，以及加工多種材料。它是塗覆高均勻性大面積的強大工具，是半導體、MEMS和光學應用的絕佳選擇。