二手 MRC Mark IV #293658618 待售

MRC Mark IV濺射設備是專為半導體晶圓加工應用而設計和設計的最先進的濺射系統。該裝置配置了一個高溫室，使其能夠在高達1000 °C的溫度下處理樣品，而無需額外的補充加熱元件。該室還具有惰性氣氛，非常適合氧氣敏感的應用。此外,Mark IV還配備了高端電源和控制器,可確保精確的電源傳遞和可重復性。機器可以用各種濺射腳本進行預編程，使其能夠濺射從1nm到20µm的各種材料和薄膜。該工具還提供多種輔助輔助，如電子束蒸發、輝光放電和等離子體增強化學氣相沈積（PECVD）功能。各種處理技術可以更精確地控制薄膜沈積的速率和速率均勻性。資產還附帶了一個先進的自動化模型，允許無人值守操作，允許用戶在設備運行時調整配方和控制參數。此外，MRC Mark IV采用MRC SputterPac軟件的最新叠代設計，允許與其他系統輕松集成。此軟件還具有強大的診斷和控制功能,允許用戶通過以太網連接遠程監視和控制系統。該單元還配備了一個視頻監視器，顯示原地進程，從而可以更仔細地檢查進程。總體而言，Mark IV提供了一種用於半導體晶圓加工的綜合濺射機。其低溫室、高端電源和控制器、精密的自動化工具、強大的軟件為用戶提供精確、可重復的濺射能力，使MRC Mark IV成為廣泛工業和科學應用的理想濺射資產。