二手 MRC / MATERIALS RESEARCH CORPORATION Eclipse Mark II #9300202 待售

MRC/MATERIALS RESEARCH CORPORATION Eclipse Mark II是一種濺射系統，允許薄膜以非常精確的速率沈積在晶圓上。它由一個帶腔室的底座和幾個關鍵部件組成。此基座包含一個射頻電源、一個射頻加熱元件、一個冷凍泵和一個質量流量控制器。腔室包含沈積基板支架、線圈/樣品/質量流控制器和快門。真空室具有渦輪分子真空泵和旋轉真空進給，以實現進行有效濺射所必需的深真空。RF加熱元件用於維持恒定溫度，冷凍泵用於在腔室內實現較低的壓力和溫度。濺射的過程開始於放置一種物質在目標上濺射，然後將一種稀有氣體（通常是Ar和Xe）引入腔室並產生等離子體。等離子體轟擊目標材料，使原子脫離目標，然後這些原子沈積在基板上，形成薄膜。沈積過程中，百葉窗保持關閉狀態，以將腔室與外界環境隔離，並確保只濺射所需的材料。射頻功率保持恒定溫度，使得濺射過程高度精確且可重復。質量流控制器確保濺射氣體的流動和室內溫度一致且精確。線圈/樣品/質量流控制器通過測量樣品壓力，不斷監測過程並對其進行調節以達到所需的薄膜，為濺射過程提供了穩定性和一致性。Mark II將所有這些組件結合使用,提供了精確且可重復的薄膜沈積。此外,Mark II提供了廣泛的控制選項和自動化過程,使用戶可以在沈積過程中輕松調整大部分參數、監控過程並進行調整。這種自動化特性使材料研究者能夠專註於他們的實驗和薄膜沈積的更重要細節。Mark II是高可靠性、精密的薄膜沈積系統。對於需要精確沈積薄膜用於先進材料研究的實驗室來說，它是理想的選擇。通過將RF電源、RF加熱元件、冷凍泵、質量流控制器和快門相結合，能夠為先進材料研究提供精確、可重復的薄膜沈積。