二手 MRC / MATERIALS RESEARCH CORPORATION Eclipse #9226263 待售

MRC / MATERIALS RESEARCH CORPORATION Eclipse
ID: 9226263
晶圓大小: 6"
優質的: 1997
Sputtering system, 6" 1997 vintage.
MRC/MATERIALS RESEARCH CORPORATION Eclipse是一種柔性濺射設備,設計用於薄膜沈積在基板上。它利用射頻電源進行濺射和沈積過程,特別適合金屬、電介質和半導體的沈積。MRC Eclipse系統包括一個主沈積室和一個包裹樣品基板的負載鎖定單元。沈積室包含多種部件,包括低噪聲射頻發生器、等離子體源、冷卻線圈和氣體註入單元。載荷鎖裝置設計為減少汙染,包含兩個站和一個穿梭機構,用於在載荷鎖和沈積室之間轉移基板。MATERIALS RESEARCH Corporation Eclipse機器是為高沈積速率和高質量薄膜而設計的。射頻射頻家用發電機產生磁控管產生的功率,在腔室內部產生受控氣氛。沈積過程中使用了包括低排放和高排放源在內的多種濺射源。這些濺射源通常是使用氙氣和其他反應性或惰性氣體如氮氣和氧氣操作的。利用這些來源,可以產生不同密度、電導率和其他性質的薄膜。對於其他流程,Eclipse工具配備了一系列輔助組件。這些部件包括穿梭室、正向磁控管線圈、質量流控制器、輝光放電源和等離子體發生器。所有這些組件都設計成相互配合,以優化工藝條件和盡量減少汙染。MRC/MATERIALS RESEARCH CORPORATION Eclipse資產還配備了集成安全模型。該設備監控溫度、壓力、工藝供氣和腔室條件等各種參數。此外,MRC Eclipse系統允許用戶自定義設置以確保最佳性能。這包括能夠選擇所需的薄膜沈積速率和粒徑,以及在必要時修改濺射源和其他成分的能力。MATERIALS RESEARCH CORPORATION Eclipse單元非常先進,適合多種應用。它可靠易用,是研究實驗室和生產環境的理想選擇。其靈活、用戶友好的設計使得它成為沈積和濺射過程的絕佳選擇。
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