二手 MRC / MATERIALS RESEARCH CORPORATION Eclipse #9238093 待售

MRC/MATERIALS RESEARCH CORPORATION Eclipse是一種專為生產薄膜層而設計的濺射設備。常用於生產半導體、復合和光學薄膜。MRC Eclipse是一種單級源/基板濺射系統，具有加熱基板級和用於樣品制備的架空負載鎖。MATERIALS RESEARCH CORPORATION Eclipse模型配備了13.56 MHz、400 W、單頻、磁控管濺射源，設計為流動1-4 cm3/min稀有氣體，允許更高的目標侵蝕率。源提供兩組輸出,第一個脈沖提供快速濺射,從而增強基板的清潔,第二個脈沖保持均勻覆蓋,同時創建一個汙染物較少的更均勻的層。Eclipse設計為手動或全自動模式運行。自動化模式有一個電腦界面，允許容易的單元操作，並允許用戶保存和加載自己的食譜。計算機還能夠監控機器參數如壓力和稀有氣體的流量，允許精確控制濺射參數。MRC/MATERIALS RESEARCH CORPORATION Eclipse的活性底物溫度範圍為-150至+600°C，允許不同材料的氧化退火等廣泛的薄膜沈積應用。活動基板定位器還允許樣品從一個定位器加載到另一個定位器,從而便於在進程運行之間更改樣品。MRC Eclipse還具有許多功能,旨在保持流程可重復性並減少停機時間。它具有自動室內清潔循環功能，旨在最大限度地減少室內堆積的濺射材料。它還有一個自動化的原位石英晶體監測器，可以精確監測薄膜的增厚和質量。所有這些特性使MATERIALS RESEARCH CORPORATION Eclipse成為一種強大的濺射工具，能夠滿足各種薄膜沈積應用的需求。它的可重復性、高溫範圍、自動化操作和高濺射速率使其成為可靠且經濟高效的沈積資產。