二手 MRC Planar #129081 待售

MRC Planar是一種高性能濺射設備。它利用平面磁控管源從目標材料到基板上產生沈積。該系統旨在產生均勻、可重復和精確的薄膜沈積。該單元由磁控管濺射源、真空室和電源組成。磁控管有一個平坦的目標，背面有永磁，表面靠近基板。目標由真空室固定在適當位置，該真空室將室內大氣與目標材料隔開。電源為磁控管提供必要的電壓和電流。對電壓和電流進行了優化，以獲得所需的濺射速率。磁控管濺射源由內部磁場操作。這會產生電離的粒子，然後向目標加速。當粒子撞擊目標時，它們以熱量的形式傳遞能量，使目標物質濺入真空室。電離的粒子以可調節的速率在基板上加速，這對於正在制造的裝置是優化的。真空室是一個密封玻璃圓筒，有氣體入口，由外部真空泵控制。它用於將腔室大氣與目標材料分離，並防止來自外部來源的汙染。該機用途廣泛，適用於高性能器件的薄膜沈積、太陽能電池、顯示器等多種應用。它非常高效，提供了與其他技術難以達到的統一覆蓋範圍。此外，其堅固的結構和模塊化設計提供了一個可靠和可重復的薄膜沈積過程。該工具可以針對特定的應用程序進行定制,並為各種材料提供高效的濺射。它可用於各種塗層工藝，對沈積速率和均勻性給予高度控制。