二手 MRC / TEL / TOKYO ELECTRON Eclipse Mark IV #293807041 待售
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MRC/TEL/TOKYO ELECTRON Eclipse Mark IV是一種先進的濺射設備，旨在提供濺射沈積過程中的卓越性能水平。該系統利用多直流（直流電）陰極電弧源產生低能離子束，為一致層沈積創造最佳環境。該單元具有雙水平平面運動和高度精確的舞臺旋轉，以及平滑的運動控制和集成的自動化工藝配方。這使得高質量平板顯示材料和各種光學元件的厚度控制更加可靠。該機采用10面方形腔室，有四個獨立的濺射源，彼此獨立運行，吞吐量更高，總成本更低。刀具的加工能力還可以使基板從濺射源旋轉+/-90°,而負載鎖定則可以控制溫度,並註重提高基板的保持精度。此外，該資產還在濺射源和基板持有者之間提供了極好的自對準。Mark IV利用用戶友好的圖形用戶界面（GUI）使模型的操作直觀明了。此GUI為用戶提供了多種工藝，如直流（直流電）濺射、射頻（射頻）濺射、蒸發和化學氣相沈積等進行選擇。此外,設備的高性能群集計算系統還有助於優化吞吐量和流程。Mark IV先進的總質量流量控制（TMFC）技術有助於在濺射沈積過程中優化濺射源條件和腔室壓力，減少濺射源之間的氣流交叉汙染。這種TMFC技術還可以確保精確的過程控制和一致的薄膜質量以及最小化的變化。此外，該裝置還配備了獲得專利的脈沖濺射源技術，可實現高效、均勻的薄膜沈積和蝕刻。綜上所述，MRC Eclipse Mark IV是一款最先進的濺射機，旨在提供出色的濺射沈積性能。其先進的特點和技術，如多直流陰極電弧源、雙水平平面運動、TMFC技術以及獲得專利的脈沖濺射源技術，使其非常適合用於FPD等光學相關行業的優質薄膜沈積應用。
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