二手 MRC / TEL / TOKYO ELECTRON Eclipse Star Mark II #9210090 待售

MRC / TEL / TOKYO ELECTRON Eclipse Star Mark II
ID: 9210090
PVD System.
MRC/TEL/TOKYO ELECTRON Eclipse Star Mark II是一種用於開發和生產薄膜材料的濺射設備。它具有易於使用的觸摸屏界面,用於設置和控制濺射過程。該系統是模塊化的,可以配置為滿足不同的需求和生產要求。它具有多種目標尺寸、圓頂配置和電源,以實現最佳的過程控制和生產。MRC Eclipse Star Mark II單元的設計考慮到了效率。自動化機器實現了同時濺射過程和更大的生產吞吐量。噴嘴設計和腔室構造減少了工藝周期時間,而即插即用的盒式磁帶使操作員能夠快速輕松地裝卸目標。自動化進一步提高了產量和吞吐量,同時允許操作員對其他任務執行多任務。為了確保過程的可重復性和可靠性,TEL Eclipse Star Mark II使用了高純度的電離氣體,並保持了潔凈室環境。該工具能夠以極高的沈積速率獲得高質量的濺射薄膜,比遺留系統高出兩(2)個數量級。這種高沈積率是滿足先進應用要求和推動過程效率提高的關鍵。為了進一步推動生產和工藝效率的提高,TOKYO ELECTRON Eclipse Star Mark II資產具有獨特的現場測量和控制能力,使用IBS探測器和均勻性傳感器。此功能提供了對過程的高級反饋和控制,從而可以更好地監視和優化過程。該模型還提供了預測和自適應的過程控制功能,有助於減少過程變化。最後,Eclipse Star Mark II提供安全功能以保護操作員和周圍環境。它有電離氣體檢測系統、用於防止開弧的安全蓋和封閉式聯鎖裝置、用於清除顆粒物汙染物的排氣設備以及用於保護操作員安全的緩弧裝置。該系統還包括真空排氣裝置,以防止汙染和減少廢氣排放。最後,MRC/TEL/TOKYO ELECTRON Eclipse Star Mark II是一種為高通量生產薄膜材料而設計的濺射機。它具有自動化的過程控制工具、高級反饋和控制功能,以及用於操作員保護的安全功能。其獨特的功能可實現高效、可重復的濺射過程,滿足最苛刻的應用程序要求。
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