二手 MRC / TEL / TOKYO ELECTRON Eclipse Star #9108489 待售
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MRC(前稱TEL)MRC/TEL/TOKYO ELECTRON Eclipse Star是一種健壯的濺射設備,利用惰性氣體將原子從目標材料中移出,並通過沈積在基板上來覆蓋基板表面。該系統的低能耗特性包括一個可變量級(高能或低能)濺射源和一個緊湊的腔室,具有緊密集成的工藝控制設計。MRC Eclipse Star的功率範圍為1-15 kW,最大濺射速率高達3 nm/min。它配備了兩種端站運行模式:直列站和邊緣站。串聯模式支持傳統的濺射過程,濺射源放置在遠離晶片表面的位置。另一方面,邊緣站模式使濺射源更靠近晶圓表面,從而創建邊緣定義的氧化層。這種濺射裝置提供熱和射頻應用支持,同時容納低能和高能塗層。電子回旋共振(ECR)和電源前饋(Power Feed Forward,PFF)使得全場等離子體控制成為可能,並在機器中內置先進的過程控制和反饋算法。此外,電源通過使用PowerSource模塊來調節,這些模塊可調節高達500 kHz的射頻信號。TEL Eclipse Star可以使用多個氣源,最多四個質譜儀,最大晶圓尺寸為200mm。預先安裝的布線棘輪防止過度扭動,其SCARA機器人提供更快的加載、卸載和晶圓處理速度。該工具的高級功能集還包括一個多目標濺射室,使多種不同的材料能夠沈積在單個基板上。Eclipse Star還能夠進行現場診斷和資產監控。其先進的診斷功能超出了目視檢查,並有一個用於原位化學分析層的提取端口被沈積。這些特性使TOKYO ELECTRON Eclipse Star模型能夠提供高精度和可重復、可靠、100%可重復的結果。設備還具備閉環過程控制、快速晶圓端點檢測、精密蝕刻控制、全自動操作等先進能力。
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