二手 MRC / TEL / TOKYO ELECTRON Eclipse Star #9112093 待售

MRC/TEL/TOKYO ELECTRON Eclipse Star是一種用於薄膜沈積的多目標濺射設備。適用於塗覆各種不同材料的薄膜，包括金屬和電介質。MRC Eclipse Star可以生產出極好的均勻性和附著力的薄膜，使其在光電和平板設備的生產方面表現出色。濺射系統基於多目標磁偏射頻激發室。該裝置能夠同時從兩個目標進行濺射，從而實現更高的沈積均勻性和更快的處理時間。TEL Eclipse Star配備了高靈敏度的反應性氣體進料機，用於可調過程控制。閥門和泵可以在一個集成的控制工具內編程，它允許用戶精確監控和調整過程參數。一個集成真空資產允許低基壓操作和高效濺射。Eclipse Star高效的目標設計可實現更高的沈積速率和更厚的薄膜。最大薄膜厚度可超過14微米。此外,TOKYO ELECTRON Eclipse Star可以精確地沈積高精度和均勻性的薄膜.其先進的功能還允許運營商實現對薄膜性能的更精細控制，如蝕刻速率和熱穩定性。MRC/TEL/TOKYO ELECTRON Eclipse Star的用戶界面提供了各種功能來記錄、分析和存儲有關工藝參數的數據。它符合適用的全球安全和環境標準，以確保保護使用者和環境。用戶還可以安裝可選模塊,例如遠程訪問和基於Web的遠程控制,以全面監控模型。MRC Eclipse Star適合處理多種材料，包括金屬、電介質等材料。它配備了一系列的清潔配件和一個可選的等離子體預清洗單元，為優秀的薄膜沈積質量。該設備可用於生產具有良好附著力的光滑無裂紋薄膜，非常適合用於高精度應用。總之，TEL Eclipse Star是一種高度先進的濺射系統，具有多目標、工藝參數精確控制、薄膜沈積質量優良等特點。適用於多種應用，非常適合生產光電平板設備。