二手 MRC / TEL / TOKYO ELECTRON Eclipse Star #9314540 待售

MRC/TEL/TOKYO ELECTRON Eclipse Star是一種濺射設備，設計用於生產微電子、光電和微機械裝置等應用，在進行薄膜沈積和蝕刻時提供高精度、準確性和可靠性。該系統由高真空室、低真空室和一系列工藝控制器及相關設備組成。濺射裝置主要用於金屬、氧化物和氮化物薄層在薄膜或基板上的沈積。機器的高真空室在高於10-7 Torr的真空水平下運行，為超高純度沈積提供了超低顆粒密度。該工具旨在提供從10-7到10-6 Torr的一系列壓力設置。包括用於基板裝卸的自動鎖載資產，從而形成一個清潔和無汙染的環境。MRC Eclipse Star的低真空室在10-3至10-5 Torr運行，允許高真空室和大氣層之間的中間區域。低真空室具有多個目標位置，允許同時濺射多種沈積材料，允許各種薄層微結構。TEL Eclipse Star由一系列高級流程控制器提供動力，這些控制器可以編程為監視、調節和維護多種關鍵參數。這些控制器為用戶提供了對諸如流量、壓力和溫度等參數的精確控制。該模型的軟件包為用戶提供數據監控、分析和控制，從而提高了流程精度。Eclipse Star旨在使用戶能夠創建高純度和低針孔的薄膜。該設備配備了原位診斷機制，如在濺射過程中監控樣品溫度的紅外攝像頭，以及監測每個濺射物種光激發態的光發射光譜儀。這允許用戶精確監控濺射沈積過程。在其他精密薄膜沈積和蝕刻應用中，TOKYO ELECTRON Eclipse Star提供可靠和均勻的薄膜，為要求最苛刻的元件提供精確定制的微觀結構。MRC/TEL/TOKYO ELECTRON Eclipse Star濺射系統旨在為用戶提供無與倫比的性能和可靠性。