二手 NANOTEC SPH-200T #9048860 待售

NANOTEC SPH-200T濺射設備是一種用戶友好的濺射沈積系統，旨在輕松地將薄膜沈積在多種基板上。它配備了（RF）射頻高頻（RF）電源和高精度、閉環控制單元。其腔室尺寸為300 x 200 mm，適用於剛性和柔性基材類型的薄膜沈積。SPH-200T非常適合將各種薄膜材料沈積到玻璃、石英、氧化物、金屬、塑料等基材上。它利用最多五個獨立的目標，最多兩個可用於18英寸的基材尺寸。它還能夠模擬一個目標的多層處理。NANOTEC SPH-200T機利用不同的射頻濺射模式滿足不同的應用需求。高密度（HD）模式是理想的應用，在高沈積速率下需要更高的均勻性，而低密度（LD）模式適合濺射到較困難或易碎的基板上，如柔性基板或氧化半導體晶片。SPH-200T工具還可用於氧氣和氮氣等反應性氣體的等離子體增強沈積（PED）。資產的集成、用戶友好的控制軟件可實現高效、準確的薄膜沈積。使用者可以監視沈積參數，例如濺射壓力、功率和時間，以及溫度。NANOTEC SPH-200T濺射模型易於操作、維護和維修.使用可靠、極安全、成本效益高。它的模塊化設計和小尺寸使其能夠適應不同的實驗室或制造環境。憑借其緊湊的設計,它還易於執行過程驗證和復制。