二手 NEXX SYSTEMS Apollo XP #9137851 待售

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ID: 9137851
晶圓大小: 6"
優質的: 2004
Sputtering system, 6" Process : PVD Manual front end Load lock degas with (1) roughing pump Deposition chamber capacity for 5 magnetrons 10kW power supply (2) 8” Cryo pumps M4 Magnetron for Au, Ti, TiW and Pt Ni Loop Magnetron for Ni SECS/GEM P/N : K11227150 2004 vintage.
NEXX SYSTEMS Apollo XP是為研發和批量生產應用而設計的精密濺射設備。阿波羅XP能夠以低功耗、高精度濺射金屬、氧化物、半導體等各種目標材料。該系統配有垂直目標布置均勻濺射,以及高能離子源轟擊目標。它有一個真空室,體積大,能夠容納多個工藝頭,並允許薄膜沈積在各種基板上,從晶片到平板顯示器。NEXX SYSTEMS Apollo XP利用先進的計算機控制薄膜沈積控制軟件,準確監控和調整工藝參數。它提供了幾個級別的可編程性,一次最多可管理16個濺射目標,最多24英寸的可用目標區域,以及最多21 ″的基板。憑借其先進的Q系列目標,Apollo XP提供了一種生產光學平衡薄膜結構的可靠、靈活和經濟高效的方法。該設備采用9英寸對角觸摸屏控制器進行直觀操作,該控制器具有以太網控制和機器診斷功能,使用戶能夠通過網絡遠程監控和調整流程參數。此外,該工具還具有集成的Class-1清潔室兼容設計,每個工藝頭都包含針對氧氣、氫氣、氮氣、氙氣、氦氣等多種氣體的單獨進氣口。NEXX SYSTEMS Apollo XP擁有精確的溫度控制,溫度範圍為+4°C至+250°C,均勻度為± 1°C。它還利用了最先進的冷卻資產,使內部冷卻模型溫度保持在環境溫度5°C以內。該設備保持了所有工藝的最佳穩定性,為精密薄膜沈積創造了最佳條件。Apollo XP是一個可靠高效的濺射系統,專門為滿足研發和批量生產環境的需求而設計。它以經濟實惠的成本提供高精度薄膜沈積,是各種薄膜應用的理想選擇。
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