二手 NEXX SYSTEMS Nimbus 364XP #9212853 待售

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圖為 已使用的 NEXX SYSTEMS Nimbus 364XP 待售
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已售出
濺鍍系統
製造商
NEXX SYSTEMS
模型
Nimbus 364XP
ID: 9212853
晶圓大小: 12"
Sputtering system, 12" Loadport type: Porta 300, 12" EFEM Robot type: GENMARK GB7 (3L7S030635) Degas Tray type: T-cool RF Generator: ICP 3155031-031A RF Match (5) Magnetrons: Magnetron types: Ti (G1) TiW(G1) Cu (M4) Cu (M4) Cu (M4) 3152422-112S Magnetron power supply MFC Type: MFC1-Model: 1179A22CR15V-S MFC2-Model: 1179A00422CR15V EBARA VOS100P Dry pump Cryo pump (etch chamber): CTI-8F Cryo pump, p/n: 8116199G001 Cryo pump (dep chamber): CTI-8F Cryo pump, p/n: 8115914G001 Cryo pump side (dep chamber): CTI-8F Cryo pump, p/n: 8116199G001 Ion gauge (etch chamber): 354005-YE-T Baratron (etch chamber): 627BU5TDDIB Ion gauge (dep chamber): 354005-YE-T Baratron (dep chamber): 627BU5TDDIB.
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NEXX SYSTEMS Nimbus 364XP是為關鍵應用程序設計的強大、高性能的濺射設備。該系統采用全不銹鋼內飾和鋁外飾，具有卓越的耐用性和高水平性能。Nimbus 364XP包括一個4室反應室，能夠同時處理各種材料，同時精確控制工藝參數。該單元還包括高端電源、用於樣品支架精確定位的集成3D步進電機，以及新設計的VacuumMaster Plus控制機（VMPC），以確保一致可靠的運行。NEXX SYSTEMS Nimbus內置的高端電源364XP提供必要的電源來濺射所選擇的材料,並利用先進的脈寬調制和電壓脈沖技術來確保理想的等離子體條件,這對於完全可重復的過程至關重要。還有一個氣體流量控制單元（GFCU）與該工具集成在一起，在過程中提供對通過腔室的氣體流量的精確控制。雨雲364XP的綜合反應室由四個獨立的腔室組成，每個腔室都能濺射不同的材料，以便於多層的過程，提供一致和可預測的結果。3 D步進電機確保每個腔室中樣品支架的精確定位，以優化工藝。VacuumMaster Plus Control Asset （VMPC）通過詳細的錯誤記錄和實時狀態監控,確保了模型的可靠一致運行。VMPC還包括允許用戶監控流程參數、根據需要調整流程以及監控進度的程序。整體NEXX SYSTEMS Nimbus 364XP提供了一種強大可靠的濺射設備,用於生產精確的薄膜層。該系統具有良好的重復性和工藝參數控制能力，多用途的四室設計可同時處理多種材料。先進的電源和集成的3D步進電機可確保卓越的性能,而VMPC可確保可靠和一致的運行。
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