二手 NEXX SYSTEMS Nimbus XP #9372726 待售
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ID: 9372726
PVD Sputtering system
With NEXX 003 Control panel
Power supply: 208 V, 50/60 Hz, 150 A, 3 Phase.
NEXX SYSTEMS雨雲XP濺射設備是為薄膜工藝研發而設計的集成濺射沈積平臺。該系統利用真空室和高能等離子體源將一系列材料沈積到放置在真空室的基板上。這允許用戶對包括金屬、半導體和絕緣體在內的多種材料應用各種厚度和均勻性的薄膜層以及沈積速率。該裝置能夠提供小面積樣品以及生產尺寸不超過8英寸的晶片。Nimbus XP利用真空內旋轉進料和提升機構，以確保較大沈積區域的均勻性。該機構設計時采用傾斜底部，以盡量減少汙染堆積。另外，轉盤的磁懸浮導致低摩擦和高度均勻的沈積速率。該機器還利用真空轉移，使樣品能夠在不造成汙染的情況下放入室內。控制器采用直觀的菜單驅動設計,並與自動化操作所需的所有必要軟件模塊集成在一起。這包括用於目標表面優化、粒子通量測量、數據記錄、過程控制和參數跟蹤的軟件。對於手動操作，控制器有一個觸摸屏液晶顯示屏，帶有微處理器控制的旋轉開關和菜單項。此外，該工具有兩個獨立的互鎖等離子體源，每個源都可以調整到精確的基板沈積參數。資產的性能由一個復雜的真空和室內監測模型密切監測。這包括溫度、流量和氣體種類，以確保最佳工藝條件。此外，該設備還具有內置離子源，能夠測量真空室內正離子的通量。這使用戶能夠快速準確地監控室內流程。為了準確再現薄膜沈積過程，該系統還具有多種安全聯鎖功能。這包括自動接地故障聯鎖、機櫃內部排氣通風以及硬線防護屏蔽。此外,該設備還采用集成節能模式,允許用戶節省高達50%的能源成本。總體而言,NEXX SYSTEMS Nimbus XP Sputtering Machine是一個最先進的平臺,它為用戶提供了一個集成的解決方案,用於在基板上精確、均勻地沈積薄膜。Nimbus XP具有多種安全特性、高度直觀的控制器和自動化的操作功能,是精確控制薄膜沈積的完美解決方案。
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