二手 NOVELLUS MB2 #188659 待售

NOVELLUS MB2是一種用於工業上薄膜應用的濺射沈積設備。它利用有角度的目標電子束轟擊，射程最大可達12英寸直徑，因此能夠在精度和精確度最高的系統中使用。通過控制電子的高能轟擊，MB2能夠再現與薄膜沈積過程結合時所遵循的極緊範圍的詳細模式。該系統還設計用於在其濺射過程窗口中納入過程監測，如光發射光譜學，提供更快的響應時間和更好的對機制的質量控制。濺射源是為了適應各種目標而設計的。鉻、銨、金、銀等材料可用於大面積覆蓋，為客戶提供薄膜結構更具創意的應用。該源還提供對電子束電流、加速電壓、源尺寸的獨立控制，允許精確控制基板上的參數和薄膜輪廓。濺射室還裝有一個或兩個可旋轉的目標，當結合創新的冷卻和預調理程序時，有助於確保目標區域的質量和均勻性。該裝置還配備了先進的窗口功能，可同時沈積多層薄膜。這樣就無需切換目標,從而進一步提高了時間效率和過程精度。此外，該機包括一個精確控制的射頻基板偏置工具開發提供均勻的覆蓋和均勻的性能。偏置技術簡化了復雜結構的圖案，同時也提供了實現更高材料質量和均勻性的機會。NOVELLUS MB2還提供真空資產，對壓力、溫度和磁控管功率進行精確監控，並具有氧化防護的氮氣凈化能力。該模型還提供PLC管子操作以及出口吹掃功能、內置的安全功能以及防止噴嘴破裂的保護。此外，該設備還能夠在內存中保存配方，實時監測多個工藝參數，從而更容易監測和維持高產量和質量保證標準。總之,MB2濺射沈積系統設計快速、精確、可靠.通過對參數設置的控制、反應性氣體的使用、多個裝置窗口以及可調節的射頻基板偏置，該單元被設計為提供靈活精確的沈積能力。該機的綜合特性和過程控制使其成為任何先進的薄膜沈積需求的一個很好的選擇。