二手 OCLI M1044 #293591854 待售
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ID: 293591854
Sputtering system
Vacuum chamber with (4) sputtering sources
(4) PFEIFFER Turbo molecular pumps with power suppliers
(2) ADVANCED ENERGY Pinnacle Ion gun, 12 kW
(3) DC Engines
(3) Drives
(6) DC Power supplies: (3+3) Master (20 kW) / Slave (10 kW)
(2) MDX Sparc-LE 20, Si target: (1+1) Master / Slave
(2) MKS 647B Multi gas controllers
(3) MAGNETRON Sputter cathodes
(20) Metal holders, 18 x 139 cm
(4) Silicon targets
(3) Niobium targets
Zirconium
HONEYWELL PLC
MKS Stabil-Ion Controller
GRANVILLE PHILLIPS Series 370 Vacuum sensor
GRANVILLE PHILLIPS Vacuum gauge
MKS Mass Flow Controller (100 to 1000 SCCM)
(2) Bias voltage sources
Bias voltage suppliers
VAT Gate and actuators
(3) MDX Display
(2) Pinnacle Display
(2) Computers
Monitor
Frame
Spare parts.
OCLI M1044是一種先進的沈積設備，用於生產先進的微電子設備。該系統具有高質量濺射能力，可用於多種應用，包括光電、MEMS、集成電路（IC）生產。該設備采用高級組件,性能卓越。該機由磁控管濺射源組成，用於將材料薄膜沈積到工作基板上。該源專為優越的濺射效果而設計，目標直徑在2到8英寸之間。此外，該工具還配備了溫度控制裝置，以確保溫度在整個沈積過程中保持一致。該資產還具有可旋轉基板支架和射頻輔助功能，有助於確保最高質量的沈積結果。此外，M1044設計有一個處理室，能夠快速和方便地安裝和維護組件。這對於快速高效的生產很重要。OCLI M1044的其他特點包括沈積速率高、均勻性好、產量高、占地面積小。具有高長寬比蝕刻能力，也可用於創造納米級特征。此外,該模型還具有高級控件,可幫助用戶調整流程參數。M1044是一個先進的設備，產生高質量的產品。它的高級組件和功能使用戶能夠快速、精確地產生納米級特性。這使得它非常適合多種應用，包括MEMS、高級光電子和IC生產。該系統可靠、高效,非常適合各種生產需要。
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