二手 OERLIKON / UNAXIS Clusterline 200 #293802334 待售

OERLIKON/UNAXIS Clusterline 200是一款高度先進的濺射設備，設計用於半導體、太陽能、光學塗層等多個行業的薄膜沈積。該濺射系統采用集群工具體系結構，在沈積過程中實現高吞吐量和靈活性。UNAXIS Clusterline 200以精確的薄膜厚度控制、均勻性和可重復性而聞名，使其成為大批量生產環境的理想選擇。OERLIKON Clusterline 200單元的核心是集成在一個平臺內的多個工藝室。這種架構允許對多個基板進行並行處理，顯著提高生產率和效率。每個工藝室都配有自己獨立的濺射靶和電源，使不同的材料可以同時或順序沈積在基板上。該機還具有用於底物裝卸的鎖載室，確保了沈積運行之間的最小停機時間。Clusterline 200配備了最先進的濺射源，如磁控管濺射和反應性濺射，為各種材料和薄膜性能提供了廣泛的沈積選擇。濺射靶子通常由金屬、氧化物和氮化物等材料制成，在薄膜沈積應用中具有多功能性。該工具可實現高沈積速率和對薄膜厚度、成分、結構的精確控制，滿足現代薄膜技術的嚴格要求。此外,OERLIKON/UNAXIS Clusterline 200還包含高級工藝控制功能,例如對關鍵參數（如沈積速率、功耗和氣體流率）的實時監控。這些功能使操作員能夠優化沈積過程，從而產生具有出色均勻性和可重復性的高質量薄膜。資產還提供配方管理軟件，允許用戶存儲和召回不同沈積配方的工藝參數，簡化模型的設置和操作。在基板處理方面，UNAXIS Clusterline 200兼容各種基板尺寸和類型，包括晶圓、玻璃面板和柔性基板。該設備可同時容納標準和定制基板尺寸,為各種生產要求提供了靈活性。此外，OERLIKON Clusterline 200還具有先進的基板加熱和冷卻能力，能夠在沈積過程中進行精確的溫度控制，以優化膜的性能和附著力。Clusterline 200 sputtering system is designed with a focus on high reliability, easily of maintenance, and safety.該裝置具有堅固的真空泵、先進的等離子體診斷和自動清潔程序,以確保最佳性能和正常運行時間。維護任務（如目標更換、腔室清潔和機床校準）旨在方便用戶使用,並最大限度地減少停機時間,從而最大限度地提高刀具的生產率。最後,OERLIKON/UNAXIS Clusterline 200是一種通用且先進的濺射設備,可為各種應用提供高通量的薄膜沈積功能。UNAXIS Clusterline 200具有群集工具體系結構、先進的濺射源、精確的過程控制和底物處理功能,是在需要高生產率和可靠性的生產環境中制造高質量薄膜的首選產品。