二手 OERLIKON / UNAXIS Clusterline 300 #293778340 待售

ID: 293778340
晶圓大小: 12"
優質的: 2006
Sputtering system, 12" 2006 vintage.
OERLIKON/UNAXIS Clusterline 300是為半導體和先進材料行業的高精度薄膜沈積而設計的最先進的濺射設備。這種先進的工具利用最新的技術進步在濺射過程中提供無與倫比的性能和多功能性。UNAXIS Clusterline 300系統的核心是群集工具體系結構,它提供了非凡的靈活性和可擴展性。該單元由多個通過中央轉移模塊相互連接的工藝室組成,允許不同工藝步驟之間的基板無縫轉移。這種模塊化設計使用戶能夠自定義機器配置以滿足特定要求,並根據需要輕松擴展刀具的容量。OERLIKON Clusterline 300工具的關鍵特性之一是其先進的濺射能力。該資產配備了一系列濺射源,包括磁控管濺射和反應性濺射,允許沈積種類繁多、具有高均勻性和重復性的材料。這些濺射源可以配置為各種幾何形狀,以適應不同的基材尺寸和形狀,為用戶提供了將薄膜沈積在各種基材上的靈活性。集群線300模型還結合了先進的過程控制技術,以確保對沈積過程的精確控制。設備配備實時監控反饋系統,連續監控氣體流速、濺射功率、基板溫度等關鍵工藝參數。這種實時反饋使用戶能夠即時優化工藝條件,從而獲得卓越的影片質量和性能。此外,OERLIKON/UNAXIS Clusterline 300系統具有方便用戶的界面,便於編寫和操作該單元。直觀的軟件界面為用戶提供了對過程參數和配方管理的全面控制,使得設置和運行復雜沈積過程變得簡單。此外,該機還配備了先進的安全功能,以保護操作員,確保操作可靠和一致。除了濺射能力外,還可以進一步加強UNAXIS Clusterline 300工具,增加用於基板清潔、預處理和現場監測等功能的工藝模塊。這些可選模塊可以無縫集成到工具體系結構中,從而使用戶能夠創建適合其特定需求的全面薄膜沈積解決方案。總體而言,OERLIKON Clusterline 300是一項尖端的濺射資產,可為各種薄膜沈積應用提供無與倫比的性能、多功能性和可靠性。憑借先進的技術、模塊化的設計、人性化的界面,Clusterline 300模型是尋求高精度、柔性薄膜沈積解決方案的半導體制造商、研究機構和先進材料開發商的理想選擇。
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