二手 OXFORD Plasmalab 400 #9409150 待售

OXFORD Plasmalab 400是一種最先進的濺射設備，用於生產半導體和薄膜器件。這種高功率系統為用戶提供了廣泛的高品質檔次選項，包括不同的目標方向、過程配置和真空準備。Plasmalab 400配備獨特的基礎和高頻電源，協同工作，確保濺射過程的一致性。這臺機組可在高達400 kW的溫度下運行，使其可用於多種過程，包括高功率電弧噴霧、標準射頻濺射、脈沖直流或射頻濺射以及階梯式調諧基板加熱。基本電源為濺射過程的啟動和調整提供超低直流電源。這也被用於離子轟擊和離子濺射蝕刻。HF電源具有400 kHz至60MHz的頻率控制範圍，這意味著它可以用於各種高級過程，包括階梯調諧基板加熱和脈沖射頻濺射。OXFORD Plasmalab 400具有堅固的腔室設計，可以容納四個磁控管陰極，以允許更高的功率密度和均勻性。創新的負載鎖設計自動提供真空壓力，最大壓力可調。這使得用戶可以輕松修改真空環境，修改腔室參數。該機提供了具有高級控制功能的直觀用戶界面，可以通過基於Web的控制平臺或依賴於面向對象編程語言Python的OxR框架進行操作。此控制軟件為用戶提供了對等離子體參數、刀具功能和過程的完全控制。最後，Plasmalab 400包括一個內置的安全鎖定資產。這提供了過程監控和聯鎖保護功能，以確保在操作模型時完全安全。它還配備了一個主動過程監視設備，用於監視腔室的過程參數，允許操作員在出現錯誤或故障時進行幹預。